
简称:IEEE T ELECTRON DEV
ISSN:0018-9383
ESSN:1557-9646
周期:Monthly
出版地:UNITED STATES
通讯:IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141
| JCR分区等级 | JCR所属学科 | 分区 | 影响因子 |
| Q2 | PHYSICS, APPLIED | Q2 | 3.221 |
| ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | Q2 |
| 影响因子 | h-index | Gold OA文章占比 | 研究类文章占比 | OA开放访问 | 平均审稿速度 |
| 3.221 | 165 | 2.78% | 99.65% | 未开放 | 约4.7个月 |