Plasma Chemistry And Plasma Processing

Plasma Chemistry And Plasma Processing简介

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》是一本由SPRINGER出版商出版的专业工程技术期刊，该刊创刊于1981年，刊期Quarterly，该刊已被国际权威数据库SCIE、SCI收录。在中科院最新升级版分区表中，该刊分区信息为大类学科：工程技术 3区，小类学科：工程：化工 3区；物理：应用 3区；物理：流体与等离子体 3区；在JCR（Journal Citation Reports）分区等级为Q2。该刊发文范围涵盖工程：化工等领域，旨在及时、准确、全面地报道国内外工程：化工工作者在该领域取得的最新研究成果、工作进展及学术动态、技术革新等，促进学术交流，鼓励学术创新。2021年影响因子为3.337，平均审稿速度较慢,6-12周。

JCR分区（当前数据版本：2021-2022年最新版）

JCR分区等级	JCR所属学科	分区	影响因子
Q2	PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS	Q2	3.337
	PHYSICS, APPLIED	Q2
	ENGINEERING, CHEMICAL	Q2

期刊指数

影响因子	h-index	Gold OA文章占比	研究类文章占比	OA开放访问	平均审稿速度
3.337	57	7.53%	93.24%	未开放	较慢,6-12周